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          1. 晶體加工鍍膜超純水設備

            晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產品部件性能。

            晶體加工鍍膜超純水設備概述:

            晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸,有八分之八十以上工序需要進行化學處理,水質不純將直接影響產品部件性能。


            晶體加工鍍膜超純水設備應用場合:

            1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。

            2.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

            3.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制。

            4.集成電路生產中高純水清洗硅片☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。 5、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

            6.高品質顯像管、螢光粉生產☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗。

            7.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料。

            8.實驗室和中試車間汽車、家電表面拋光處理☆光電產品、其他高科技精微產品。

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